ニュースリリース

株式会社イオンテクノセンターでは、以下の通り、
「応用物理学会　先進パワー半導体分科会」にて
出展及びポスター発表いたします。
【開催期日】2016年11月8日（火）～11月9日（水）
【開催場所】つくば国際会議場　【小間番号】29
【ポスター発表】
　　　・Alイオン注入したSiCデバイスの電気的特性
　　　　2016年11月8日（火）　13:00～　多目的ホール
　　　・イオン注入ダメージを付加したSiC N+注入層の電気的特性評価
　　　　2016年11月8日（火）　13:00～　多目的ホール
皆様のご来場、お待ち申し上げております。